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企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS
在半導(dǎo)體制造過程中，光刻膠的去除是關(guān)鍵步驟之一。等離子去膠技術(shù)因其高效、環(huán)保和精確性被廣泛應(yīng)用于這一過程。然而為了進(jìn)一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，優(yōu)化半導(dǎo)體等離子...
[查看詳情]技術(shù)文章| Technical articles
真空等離子清洗機(jī)是一種利用真空環(huán)境下的等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備。工作原理：在真空環(huán)境中，通過射頻或微波激發(fā)工藝氣體，使其電離形成等離子體。這些高活性粒子通過物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，去除材料表面的有機(jī)物、氧化物及微小顆粒，實(shí)現(xiàn)無殘留、高精度的表面處理。真空等離子清洗機(jī)集成的控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)通過多維度技術(shù)整合，顯著提升了設(shè)備操作的便捷性、工藝穩(wěn)定性和智能化水平。以下是其核心設(shè)計(jì)要點(diǎn)及對(duì)操作便利性的提升：1.模塊化硬件架構(gòu)核心部件協(xié)同：控制系統(tǒng)以PLC或嵌入式處理器為核心，集成氣體...
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